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戳到痛处 三星半导体战略阴影笼罩


时间: 2019-07-16    来源: 澳门葡萄京官方网站

  戳到痛处 三星半导体战略阴影笼罩
受日本政府对韩国启动半导体材料出口管制影响,在半导体行业有观点认为,韩国三星电子的“非存储器”战略将受到影响。其原因是,日本限制出口的3类材料之一的“光刻胶(Resist)”可能对三星投产最尖端装置产生影响。这关乎三星能否在今后的开发竞争中处于优势地位。
 
 
 
据《日本经济新闻》网站近日报道,行业团体“韩国半导体产业协会”常务安基铉就日本加强出口管制的感光材料指出,“从光的波长来看,被称为EUV的最尖端曝光装置用光刻胶成为限制出口的对象”。在此基础上表示“可能对生产大规模集成电路(LSI)的三星使用EUV的生产线产生影响”。
 
报道称,一台EUV售价约200亿日元(1日元约合0.06元人民币),操作也很复杂,但是能够使更高性能的半导体开发成为可能。目前,能够在量产线中使用EUV的被认为只有三星和台积电制造。
 
围绕大规模集成电路,三星在作为智能手机“大脑”的半导体代工生产等领域与台积电竞争,在图像传感器领域与索尼竞争。全球市场份额在两成左右,均位居第2位。三星的主营业务是保存手机等数据的存储器业务,大规模集成电路在半导体业务营业利润中所占比例还不到5%。
 
但是在存储器市场,去年秋季之前拉动市场增长的美国IT巨头面向服务器的投资暂歇,今年市场行情出现恶化。三星2019年4月至6月的营业利润(速报值)较上年同期大幅减少56%。
 
 

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